電泳涂裝線、琉璃清洗線有很多水洗工藝。工件清洗的效果直接影響到產(chǎn)品生產(chǎn)后續(xù)的穩(wěn)定性。水洗一般有自來水噴淋清洗、自來水浸漬清洗、純水浸漬清洗、純水噴淋洗、干凈純水噴淋清洗等各道工序。 電泳涂裝線、琉璃清洗線水洗電導(dǎo)率一般要求在15μS/cm2。
電泳后的水洗：超濾水洗后，工件還需要純水清洗，一般有純水浸洗，再加上一道干凈純水噴淋清洗工序，也是采用逆向流動(dòng)重復(fù)利用水，即干凈純水清洗工件后，返回到純水洗槽，然后通過純水槽溢流排出。電泳后的純水洗電導(dǎo)率一般要求15μS/cm2。電泳涂裝行業(yè)大型系統(tǒng)一般采用反滲透系統(tǒng)，小型系統(tǒng)可采用離子交換系統(tǒng)，一般用于飾品如表帶、鏡架、手機(jī)殼上的面彩色電泳對純水純度更高，需要在后面增加混床或EDI裝置以使產(chǎn)水電導(dǎo)率達(dá)到1uS/cm2。
離子交換與反滲透技術(shù)的比較：
離子交換與反滲透相比具有投資成本低的優(yōu)勢
離子交換設(shè)備占地一般反滲透設(shè)備要小
在原水水質(zhì)低于200uS/CM時(shí)其運(yùn)行成本也低于反滲透系統(tǒng)
原水電導(dǎo)率高于500uS/CM時(shí)其運(yùn)行成本會(huì)比較高
離子交換器交換飽合后需要用酸、堿進(jìn)行再生
反滲透不需酸堿再生，無環(huán)保問題
反滲透產(chǎn)水穩(wěn)定性比較好
反滲透操作簡單
反滲透在適合高鹽份(電導(dǎo)率)的水源
用于涂裝行業(yè)的離子交換設(shè)備：
離子交換是通過置換反應(yīng)交換水中的陰(CaCO32-SO42-，HCO3-等)陽(Ca2+， Mg2+，F(xiàn)e2+等)離子，同時(shí)釋放H+和OH-產(chǎn)生純水。這種工藝可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化操作，需要酸堿再生， 在原水低鹽份(表現(xiàn)出現(xiàn)電導(dǎo)低于200左右)運(yùn)行成本和投資成本雙低，但原水電導(dǎo)率達(dá)到500uS/CM2，運(yùn)行成本就比較高了。
1、需要搞清楚處理的水源：如是自來水、中水、河水、地下水，需要根據(jù)不同的水源選取不同的預(yù)處理過濾設(shè)備。
2、需要搞清楚處理后的水質(zhì)要求，反滲透設(shè)備可以達(dá)到小于10us的純水，如果需要達(dá)到1us的設(shè)備，反滲透的精度就不夠高了，還需要加多一組過濾。
3、需要解決濃水排放的問題，濃水一般可用于一些產(chǎn)品的前處理清洗或一些雜用水。
4、需要解決廠地問題，反滲透設(shè)備需要一定的廠地?cái)[放，根據(jù)設(shè)備大小的不同，場地大小也不相同。
反滲透設(shè)備流程圖如下：
反滲透純水設(shè)備用于制藥機(jī)械加工用水，該設(shè)備主要采用反滲透技術(shù)和EDI技術(shù)，有效去除原水中的膠體、微生物、懸浮物、有機(jī)離子、細(xì)菌等雜質(zhì)，出水電阻率可以達(dá)到18兆歐以上，完全滿足制藥機(jī)械加工用水需求。
工藝設(shè)計(jì)
純水設(shè)備安裝條件
1.裝置運(yùn)到現(xiàn)場后應(yīng)放置于室內(nèi)周圍環(huán)境溫度較低不得低于5℃較高不得高于38℃。當(dāng)溫度高于35℃時(shí)應(yīng)加強(qiáng)通風(fēng)措施。
2.裝置到達(dá)后應(yīng)在一個(gè)月內(nèi)安裝完畢并應(yīng)立即進(jìn)行通水試車運(yùn)行。
3.裝置在未進(jìn)行通水試車之前任何閥門均不得開啟以免保護(hù)溶液流出致使元件損壞。
4.裝置就位后應(yīng)調(diào)整裝置支承點(diǎn)使組件處于基本水平的位置且與基礎(chǔ)接觸可靠。
5.裝置與供水泵相接的管路及閥門在連接之前應(yīng)進(jìn)行脫脂處理供水泵過流部份也應(yīng)進(jìn)行脫脂處理。
6.裝置的產(chǎn)水輸出管較大輸出高度應(yīng)小于8米。
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